枚小芯片，外观上只有一些微缩印记，但是具体也看不出什么来。

    所以他只能看一些报告，从这报告上来看，采用十纳米工艺设计生产的s806芯片，在性能上对比s706强了不少，整体性能预计能提升百分之三十左右。

    这也是相当不容易的。

    生产十纳米工艺的二十一号厂，总投资达到了六十多亿美元呢。

    而十纳米工艺，也是目前智云微电子那边在现有技术条件下，采用浸润式duv光刻机，使用利用双重曝光技术下所做到的极限了。

    再往下的话，就需要通过四重曝光技术来研发等效7纳米工艺的芯片了……而这一技术的制造成本更高。

    所以从芯片的制造成本来看，尤其是使用duv浸润式光刻机的情况下，采用双重曝光技术，生产14纳米工艺的芯片才是最划算的，这也包括智云12纳米工艺，毕竟智云的十二纳米工艺其实就是他们自己的第二代十四纳米工艺。

    使用十纳米工艺的话，虽然芯片性能提升了一些，但是成本提升了很多，如果不是s系列手机这种奔着极限去，各种追求领先的产品，其实都没必要采用智云等效十纳米工艺的芯片。

    这也是智云半导体的一大堆各种芯片设计里，基本都是围绕着十四纳米工艺以及十二纳米工艺展开的缘故。

    至于十纳米工艺的芯片，目前就只有两种，一种是s系列手机使用的s806芯片，另外一种则是用于各种车辆以及无人机平台的算力芯片eyq4。

    其他的，包括ai训练芯片，暂时都不会采用这个十纳米工艺……划不来。

    目前乃至未来两年内，智云集团这边新生产或设计的ai训练芯片，包括自用的ai系列，都会采用第二代十四纳米工艺，也就是智云宣传的十二纳米工艺制造。

    其他各类芯片，电脑cpu，服务器cpu，各类显卡等等也将会采用十二纳米工艺制造。

    同时还有一大堆已经设计生产的芯片用的是第一代十四纳米工艺。

    至于十八纳米工艺的一些产品，则是已经陆续停产，该工艺也是属于过度工艺，性价比太低了。

    未来好几年内，智云集团的各类芯片，不管自用还是外销，都会采用十四纳米工艺为主，当然，这个十四纳米工艺可能会有很多种，包括第一代十四纳米工艺，第二代十四纳米工艺（十二纳米），然后还有其他的一些变种工艺，以满足不同类型的芯片的需求。

    至于更先进，但是性价比太低的十纳米工艺，注定只是个过渡工艺。

    智云集团的一些先进芯片，如ai训练芯片，手机soc芯片，机载算力卡这些对工艺要求高，对算力要求高的芯片，则是都把目光面瞄向了更好的等效七纳米工艺……虽然那玩意的成本会更高，但是带来的性能提升也足够大，所以咬咬牙也能用。

    这就是没有euv光刻机的尴尬了。

    如果有euv光刻机的话，等效七纳米芯片的成本就能拉下来，同样的，等效十纳米工艺其实用euv光刻机来生产也更方便，成本更低。

    可惜，智云集团一时半会还得不到euv光刻机。

    但是庆幸的是，台积电，英特尔，四星等半导体厂商也无法得到euv光刻机……荷兰的as在今年十一月份的时候，就已经正式对外宣布：受到多个子系统研发进度缓慢的影响，预定明年交货的量产型euv光刻机，也就是可以用来进行大规模量产芯片的euv光刻机将会进一步推迟。

    他们给出的初步计划是在18年推出量产型的euv光刻机。

    但实际上，这个时间表那只是一切顺利的情况下。

    而实际上不可能顺利的，智云集团那边睁着大眼睛盯着as那边呢……但凡有点什么进展，立马各种车祸就来了，供应链那边就会出现问题了。

    虽然没有任何证据，也没有任何公开报道，但是该知道的人都知道是智云那群人干的。

    所以as那边其实早早就摆烂了，euv项目组只是维持在一个低水平推进的状态……反正卖浸润式duv光刻机也很赚钱。

    至于euv光刻机，拖着呗。

    至于什么时候大规模启动euv项目，进入量产型号的投产模式，那要等那些大财团们打完架再说。

    不管是分出胜负也好，达成协议也罢，总之在出现结果之前他们as是不会参与其中的。

    不然的话，就会出现大佬们打架，死的却是as工程师这种非常尴尬的情况。

    而徐申学手底下的海湾科技的euv光刻机进度也没那么快，怎么也得好几年才能成熟应用。

    所以在这个时代里，一票晶圆厂们，包括智云微电子，台积电等在内，只能苦哈哈的继续使用duv浸润式光刻机推进工艺，搞十纳米，搞等效七纳米。

    甚至这两家都还在琢磨着用duv浸润式光刻机搞等效五纳米的