这天，马宇腾的轿车驶入龙岗区雷霆晶片工厂，直抵办公楼前。

    此前，晶片公司总经理肖光楠在电话中告知，90纳米製程已取得突破，他特意赶来亲眼看看成果。

    轿车停稳，马宇腾推门下车。

    肖光楠早已等在门口，见他出现，立刻迎上前去，脸上带著难以掩饰的兴奋。

    “马总，欢迎您来雷霆晶片指导工作。”肖光楠说。

    “走吧，带我去看看你们的成果。”

    马宇腾言语简洁，目光直接投向生產区方向。

    前往生產区域的路上，肖光楠边走边匯报：

    “马总，上次向您报告90纳米製程试產有突破。这几周，我们持续调试和优化，现在已成功跑通整个工艺流程。儘管良品率还有提升空间，但技术路径已得到充分验证。”

    他语气中透著一股自豪，这是团队夜以继日攻关的结晶。

    两人抵达洁净室入口，按规定换上无尘服，戴好口罩与手套。

    经过风淋室的严格净化，才得以进入生產腹地。

    洁净室內，巨大的设备阵列排布，机械臂在各自轨道上精確运行，发出轻微的机械声。

    空气中，一种微弱而奇特的气味，那是高科技与精密製造混合出的专属气息。

    肖光楠引领在前，指著一台核心设备介绍：

    “马总，这就是我们90纳米製程的实验线。目前，所有关键设备均已就位，並完成了初步集成与校准。”

    马宇腾的目光落在那台庞大的机器上，它被严密的防护罩包裹，占据了洁净室的核心位置。

    “这是浸没式光刻机？”马宇腾的声音透过口罩，略显低沉。

    他想起数月前，与张如晶商谈时的情景。

    “是的。”肖光楠回应。

    “它採用193纳米波长的深紫外线光源，通过在镜头与晶圆间填充纯水，有效提升了数值孔径，从而实现更小的曝光尺寸。”

    他指向机器侧面的显示屏，“您看，这是光刻机的工作状態参数。我们正在进行曝光测试。”

    显示屏上，数据流转，光束路径、曝光强度、晶圆定位精度，各项技术指標跃然眼前。

    “这台机器的精度，远超我们此前使用的乾式光刻机。”

    肖光楠继续说。

    “它的解析度能达到90纳米甚至更低。这是我们实现90纳米製程突破的关键。”

    马宇腾走到一台运行中的设备旁，一个机械臂正將一片晶圆送入设备內部。

    晶圆表面，在强光下泛著微光。

    “整个工艺流程，从晶圆清洗、涂胶、曝光、显影、刻蚀，再到离子注入和金属化，我们都进行了大量的优化和验证。”

    肖光楠说，“当前，良品率是最大挑战。实验阶段波动较大，但我们相信，隨著工艺的进一步成熟和参数的精细调整，很快就能达到稳定量產的要求。”

    马宇腾转头看肖光楠，眼神中带著考量。

    “现在技术路径已全部跑通？”

    “是的。”肖光楠肯定地回答。

    “浸没式光刻是当前半导体先进位程的唯一道路。台积电已用事实证明了这点。我们的技术团队，包括从东芯国际交流过的工程师，都认为这个方向正確无误。”

    马宇腾轻点一下头。

    他走到一台检测设备前，屏幕上显示著晶圆表面的微观结构图，密密麻麻的电路图案，如同精密的迷宫。

    “这些是初步测试结果。您能看到，90纳米的线宽已清晰可见。”

    肖光楠指向屏幕，“儘管有些区域仍存在缺陷，但大部分结构都符合设计要求。”

    马宇腾凝视屏幕，他明白，每个微小结构都凝聚著无数工程师的心血。

    “良品率提升，预计需要多久？”马宇腾问。

    “根据经验，至少还需要三到六个月。”肖光楠回答。

    “这需要大量实验，持续调整工艺参数，优化设备性能。尤其在刻蚀和清洗环节，对良率影响最大。”

    马宇腾没有立即回应，他在脑海中快速梳理著下一步的计划。

    三到六个月，这个时间不可或缺。

    他深知，技术突破初期，良品率是最大的拦路虎，也是最考验耐心的环节。

    “肖总，你们与东芯国际的合作，效果如何？”

    马宇腾问，他心知肚明当初派团队“偷师”的目的。

    肖光楠脸上浮现出由衷的敬佩。

    “非常成功。东芯国际在130纳米製程的量產经验，给了我们极大帮助。他们的工程师团队，在工艺整合和设备调试方面，確实有独到之处。”

    肖光楠说，“我们的工程师团队，也从中学到了很多。特別是对成熟製程的理解和把控，提升了一个台阶。”