我们的光刻机精度，就达到了3微米，基本一直贴近国际主流水平。

    后来的倭国、寒国，在那时连这个想法都没有呢。未来独霸天下的阿斯麦，更是没影的事。

    到了八十年代中期，就更了不得了，自动接近式光刻机研制成功了，分步投影式光刻机生产出来了，光刻光源甚至已经达到了193纳米。

    这一技术，仅比国际上最领先的，落后了四五年的时间，更是遥遥领先着阿斯麦。可以说，当时在光刻机技术上，咱们谁也不怵！

    然而，很可惜，光刻机的研发，也就到此为止了。

    所有人都以为我们的、光刻机的辉煌征途刚刚开始，但谁也没想到，在那之后就开始陷入长达二十多年的落寞。

    断了光刻机的自主研发之路，原因只有一个字：“穷”！