茫，每个人脸上都带着一种专注和自信。

    尹仕尧指着一台已经完成外部封装，正在进行软件调试的设备，语气里充满了自豪。

    “这是我们自主研发的第一代介质蚀刻机，已经通过了内部测试。”

    马宇腾走到设备前，通过观察窗，能看到内部复杂的真空腔体和等离子体发生设备。

    他知道，这台机器的价值，绝不亚于一台光刻机。

    在芯片制造流程中，如果说光刻机是“雕刻师”，用光在晶圆上画出精美的图案。

    那么蚀刻机就是“刻刀”，负责将图案上没有被光刻胶保护的部分，一层一层地、以纳米级的精度蚀刻掉，从而形成晶体管的沟槽、金属互连的线路。

    一次光刻，往往伴随着数次甚至数十次的蚀刻。

    蚀刻的精度、速度和均匀性，直接决定了芯片的良率和性能。

    “尹总，你们这台设备，对标的是国际上哪款产品？”马宇腾问。

    尹仕尧赞许地看了他一眼，这个问题很内行。

    “对标的是应用材料公司的eMAX系列。当然，在一些关键指标上，我们还有差距。但我们已经实现了从零到一的突破。”

    他领着两人继续往里走，来到一个独立的研发局域，这里摆放着各种零部件和设计图纸。

    “差距主要在哪里？”马宇腾追问。

    “专利。”尹仕尧的回答只有一个词。