试验区专用的会议室。

    梁锰颂脱下防尘服，走到白板前，没有需要任何PPT或者资料，整个项目的进度图，早已刻在了他的脑子里。

    “马总，张总。我来介绍一下40纳米制程项目的最新进展。”

    他拿起一支马克笔，在白板上画了一个简单的流程图。

    “得益于我们团队强大的执行力，以及之前在45纳米项目上积累的宝贵数据，目前40纳米的研发推进速度，比我预期的还要快。”

    他的语气里，带着一丝难以掩饰的自豪。

    “其中最大的两个难点，光刻和应变硅，我们已经基本攻克了。”

    他看向马宇腾，眼神里闪铄着光芒。

    “ASML那边，受我们跟台积电的关系影响，被迫停止了对我们关于193纳米浸没式光刻机的技术支持。台积电的算盘是，没有ASML的双重曝光技术（DPT）和软件支持，我们就不可能实现40纳米所需要的关键尺寸。”

    张柯的眉头微微皱起。

    这件事他知道，是芯片事业群面临的一个重大外部压力。

    “但是，”梁锰颂话锋一转，语气变得昂扬。

    “我找到了另一条路。我们绕开了ASML，直接和尼康进行深度合作。利用尼康在镜头和对准系统上的优势，我们开发出了一套属于自己的多重曝光工艺解决方案。”

    “虽然在初期，这套方案的良率控制会比ASML的方案更复杂，但它给了我们自主权。我们再也不用看他们的脸色。”

    马宇腾静静地听着，手指在会议桌上轻轻敲击。

    用市场换技术，从来不是他的风格。

    用技术换市场，才是。

    梁锰颂的选择，与他的理念不谋而合。