不用说参加各种例行会议了。除非有重要任务需要协调，否则他几乎全天候守在车间。

    对他而言，中规模集成电路的工艺攻关已进入后半程，正朝着更复杂的集成层次推进。

    接下来的日子里，一机部工业研究所的集成电路车间始终保持着高速运转的状态。在刘光齐的带领下，中规模集成电路研发项目如潮水般突破着各项技术瓶颈，持续攻克着元器件逻辑门数量的限制。由于前期方向明确、基础扎实，如今的快速进展显得水到渠成。

    此刻刘光齐并没有待在项目组的主实验区，而是站在车间另一侧的大黑板前，用粉笔勾勒着复杂的图纸。这是光刻机的技术原理图——基于此前在小规模集成电路研发中改良的光刻工艺，结合与中国科学院的技术交流，他正在着手设计初代接触式光刻机。

    要实现集成电路芯片的批量生产，光刻机是必须跨越的技术关口。事实上，国内的光刻技术研发早在六十年代初便已起步。这个时代的中国科研工作者凭借自力更生的精神，在极其艰苦的条件下，硬是研制出了光刻机、芯片离子注入机等一系列精密设备。

    即便没有刘光齐的出现，六十年代初期的光刻工艺也已奠定基础。而此时，距离未来光刻机巨头ASML的创立尚有近二十年时间。

    在半导体技术竞赛的最初阶段，华国本是领跑者。

    可为何后来——

    这片土地上的光刻技术，反而渐渐落在了西方身后？

    答案直白得近乎残酷。

    购买胜过自研，租贷胜过购买。

    换言之，

    早年的华国受限于经济条件，要在光刻这类尖端技术上取得突破，步履维艰。

    研发的齿轮因此缓缓减速，几近停转。

    这一停，便是将近二十载光阴。

    须知，

    光刻工艺的每一点进步，都需经年累月的投入与人才的层层积淀。

    华国虽出发得早，

    底子却仍显单薄，加之外部的技术围栏，追赶之路并非坦途。

    而今，

    刘光琪站在了这里。他绝不会眼睁睁放过半导体天穹中最亮的那颗星——

    光刻机。

    此时西方的光刻技术亦在萌芽不久，虽略领先于华国，优势却也微薄。

    刘光琪的谋划是——

    一手推进中规模集成电路的研制，一手将光刻机从蓝图化为现实。

    两条路并进。

    待时日稍积，

    便能以更精进的光刻工艺，反哺集成电路的制造，让芯片如潮水般涌向市场。

    光刻机之理，

    在物理层面并不幽深，内核属于微电子科学与工程的疆域。

    这是一门交织的学问，

    融汇了物理、材料、光学与精密机械的智慧。

    恰巧，刘光琪依凭前世的积淀与此世卓绝的领悟力，早已触及光刻技术的门径。

    若以修筑百层高楼比喻芯片的制造，

    那么光刻机便是勾勒骨架的笔锋——

    绘一层轮廓，覆一层材质，再续绘下一层。

    说来轻巧，

    真要将光刻化为现实，却复杂得超乎想象。

    此刻，

    所有的视线都紧紧锁在那台新生的银灰色设备上。

    那是一台接触式光刻机，

    静立如碑，镜头在灯光下流转着冷静而精密的光泽。

    一名戴眼镜的技术员弯身贴在机台前，额间沁满细汗，连呼吸都屏住了。

    整个集成电路车间的空气仿佛凝结成冰。

    忽然——

    “线路……线路完整！”

    “成了！曝光的电路图形没有断裂，精度完全符合要求！”

    这句话像冷水溅入热油，

    轰然一声，

    车间里爆发出雷鸣般的欢呼。

    “我们做到了！真的做出来了！”

    这台机器，

    承载着太多人的心血，也凝聚着刘光琪独排众议的坚持。

    如今它终于回应了所有期待。

    要知道，

    接触式光刻机正是中规模集成电路制造的生命线，决定着芯片的集成高度与产出品质。

    去年刘光琪顶着重重压力，坚持分头并进——

    一边在计算所与微电子研究员展开前瞻探讨，一边分组同步推动研发。

    即将为中规模集成电路的最终落地，扫清最关键的障碍。

    看着四周一张张因狂喜而涨红的脸，

    刘光琪只是淡淡一笑。

    他其实比谁都平静。

    因为他清楚地