“国内现在能动用的最好设备，拼了老命也只能做到零点一八微米，而你这个器件，要把性能拉满，至少得达到零点零九微米。”

    零点一八到零点零九。

    看似只是几个数字的差距，实则是横亘在华夏半导体工业面前的一道天堑。

    许哲的心猛地往下一沉。

    前世他虽然是搞金融的，但也对华夏的其他行业一知半解，知道这就是所谓的“摩尔定律”死结。

    没有ASML那种顶级的EUV光刻机，想要强行突破物理极限，无异于痴人说梦。

    难道真的要死在这里？

    不对。

    许哲脑中灵光一闪，前世的一篇技术研报突然浮现在脑海。

    在EUV光刻机普及之前，尼康和佳能曾经用过一种“笨办法”来延续摩尔定律。

    “张老。”

    许哲猛地抬头，眼里的光亮得吓人，“如果是死路，我们就换个走法。”

    “既然单次曝光达不到精度，能不能放弃传统光刻逻辑，改用深紫外光的多重曝光技术？”

    张院士夹烟的手在半空中停住了。

    “多重曝光？”

    “对！既然波长受限，那我们就用计算换精度。”

    “把原本一层光刻的图形拆分成两层甚至三层，利用现有设备的深紫外光源进行多次错位曝光，再通过化学刻蚀修剪。”

    “虽然步骤繁琐了三倍，良品率会暴跌，但理论上，这能不能在零点一八的机台上跑出零点零九的效果？”

    死寂。

    整个办公室安静得只能听见墙上挂钟“咔哒、咔哒”的走字声。

    张院士手里的烟燃到了尽头，烫到了指尖他才猛然惊醒。

    他像看怪物一样盯着许哲，嘴唇微微哆嗦。